蚀刻机和光刻机之间的区别国产5nm蚀取得台积电认证

最近5nm刻蚀机被炒的很火,网上铺天盖地的消息都在说,中国芯片已经实现弯道超车,我国芯片将自给自足,不用担心被卡脖子的问题了。其实这种说法是极其不专业的,纯粹就是偷天换日、混淆视听。

乍一看光刻机蚀刻机非常接近,但是光刻机蚀刻机却不能混为一谈,因为蚀刻只是制造芯片其中之一的环节罢了。而刻蚀机也只是诸多芯片制造设备其中之一。下面我给大家聊一下蚀刻机。

蚀刻机和光刻机其实就是完全不同的两种设备,不论从功能还是结构上来说都是天差地别,光刻机是整个芯片制造过程中最为核心的设备,芯片的制程是由光刻机决定的,而不是蚀刻机。

如果把制造芯片比喻成盖房子,那么光刻机的作用就是把房子的结构标注在地上。刻蚀机就是在光刻完成以后才登场的设备,也是光刻完成以后最为重要的设备之一。刻蚀机最主要的作用就是按照光刻机已经标注好的线去做基础建设,把不需要的地方给清除掉,只留下光刻过程中标注好的线路。

光刻机的最主要的核心技术就是光源和光路,其光源和光路的主要组成部分有四个,光源、曝光、检测、和其他高精密机械组成。对比之下,蚀刻机的结构组成就要简单很多,主要是等离子体射频源、反应腔室和真空气路等组成。

ASML的EUV光刻机单台售价高达1.2亿美元,而蚀刻机的售价就要低很多了,每台售价在几十万到几百万美元之间。

蚀刻机的相关工作原理我之前有发文,有感兴趣的可以去我主页去找,这里我也不再过多叙述。

国产蚀刻机就给我国半导体领域做了一个很好的榜样,我国中微半导体研发出国际主流的5nm蚀刻机并取得台积电的认证后,美国商务部就把蚀刻机从对华出口限制清单上移除了。这充分说明了一件事情,只要自己有了核心技术,对手就没法再打压你。

总体来说,我国在半导体领域还相对比较落后,还有较长的路要走,但是只要我们坚持走下去,就一定可以看见彩虹。

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